8月1日消息，国知识产权局信息显示，中微半体设备（上海）股份有限公司申请项名为“种半体处理设备”的利。申请公布号为CN122497311A，申请号为CN202610570303.X，申请公布日期为2026年7月31日，申请日期为2022年4月19日，发明人尹志尧、陶珩、庞云玲、丛海、姜勇，利代理机构上海元好知识产权代理有限公司，利代理师徐雯琼、张静洁新乡护角胶，分类号H10P72/00。
利摘要显示，本发明公开了种半体处理设备解决了半体处理域承压能力的技术问题，主要通过承压壳体形成密闭空间，使用调压装置对密闭空间的气压进行调节，进而调整半体处理设备表面承受的气压，来优化上盖的结构设计。
天眼查数据显示，中微半体设备（上海）股份有限公司成立日期2004年5月31日，保温护角专用胶法定代表人尹志尧，所属行业为用设备制造业，企业规模为大型，注册资本95784.2348万人民币，实缴资本62614.5307万人民币，注册地址为上海市浦东新区金桥出口加工区（南区）泰华路188号。中微半体设备（上海）股份有限公司共对外投资了31企业，参与招投标项目90次，财产线索面有信息116条，利信息1740条新乡护角胶，拥有行政许可88个。
中微半体设备（上海）股份有限公司近期利情况如下：
序号利名称利类型法律状态申请号申请日期公开(公告)号公开(公告)日期发明人1种射频功率供应系统发明利实质审查的生、公布CN202511924458.02025-12-18CN121879506A2026-04-17倪图强、李博睿、刘依、肖尧、黄阳、邱文杰2种工艺顶盖及气相沉积设备实用新型授权CN202521979639.92025-09-15CN223458392U2025-10-21刘从灵、谢振南、郑振宇、柴浩瑞、姜勇、郭世平3晶圆托盘外观利授权CN202530511724.12025-08-28CN309976984S2026-05-12代宇通、汪国元、黄稳、姜勇4聚焦环外观利授权CN202530468204.72025-08-08CN310024085S2026-06-09范光伟、周艳5聚焦环外观利授权CN202530468218.92025-08-08CN310024087S2026-06-09范光伟、周艳6聚焦环外观利授权CN202530468041.22025-08-08CN310024084S2026-06-09范光伟、周艳7气体喷淋头外观利授权CN202530466397.22025-08-07CN309910861S2026-04-10孟可、周艳、李开元8气体喷淋头外观利授权CN202530466450.92025-08-07CN309910862S2026-04-10朱永成9气体喷淋头外观利授权CN202530466394.92025-08-07CN309910860S2026-04-10周艳、李开元10接地环外观利授权CN202530466452.82025-08-07CN310024083S2026-06-09周艳、李开元11物理气相沉积设备及其磁控管调整机构实用新型授权CN202521450528.92025-07-10CN224494308U2026-07-14马化韬、刘学滨、能语12种供气系统及半体处理装置实用新型授权CN202521318120.62025-06-25CN224494325U2026-07-14刘进、徐灿阳、许灿、沈成绪、杨闰清13气体输送管道及半体处理装置实用新型授权CN202521194367.12025-06-11CN224516526U2026-07-17梁锟、海涛14种气相沉积装置实用新型授权CN202521091304.32025-05-29CN224337694U2026-06-09何伟业、能语、刘学滨、陈冬、张泽涛、刘雯伊15种聚焦环功率调节组件实用新型授权CN202520964307.72025-05-15CN224342273U2026-06-09田宁、叶如彬、范光伟16种等离子体处理装置及其约束环组件实用新型授权CN202520892625.72025-05-07CN224342272U2026-06-09叶如彬、范光伟、马越、孟可、田宁17种真空吸盘、基座组件和薄膜沉积装置实用新型授权CN202520892567.82025-05-07CN224350749U2026-06-12董维、庄宇峰、付海涛、晓明、李远18种金属钛层的沉积工艺发明利实质审查的生、公布CN202510559967.12025-04-29CN122214841A2026-06-16沈成绪、许灿19反应腔、宽比结构及其形成法发明利授权、实质审查的生、公布CN202510550377.22025-04-28CN120072612B2025-07-25尹志尧、徐伟娜、张川、张凯、丛海、刘志强20基片托盘外观利授权CN202530230568.12025-04-25CN309730273S2026-01-09陈耀、毅、陶章峰、陆顺开21基片托盘外观利授权CN202530230569.62025-04-25CN309730274S2026-01-09陈耀、毅、陶章峰、陆顺开22环组件及外延生长设备实用新型授权CN202520811017.92025-04-25CN224337799U2026-06-09张辉、姜银鑫、陆顺开23种下电组件及等离子体处理设备实用新型授权CN202520786770.72025-04-23CN224342271U2026-06-09叶如彬、范光伟、马越、田宁、孟可24种半体处理设备及其气体喷淋头实用新型授权CN202520786902.62025-04-23CN224343720U2026-06-09程程、李雪子25电磁线圈组件及半体加工设备实用新型授权CN202520763154.X2025-04-21CN224232426U2026-05-12亚军、周国祥26种磁控管组件及磁控溅射设备实用新型授权CN202520736456.82025-04-17CN224337693U2026-06-09刘畅、刘恺民、能语27种基片处理系统实用新型授权CN202520716379.X2025-04-15CN224267209U2026-05-22徐义、陈琦、莱纳德·刘、梁冬冬、张海龙、陶珩、吴红星28种气相沉积设备及半体处理系统发明利公布CN202510444720.52025-04-09CN120830094A2025-10-24尹志尧、倪图强、丛海、请求不公布姓名、杨宽、张海龙、朱荣帅29种升降驱动组件和半体工艺设备实用新型授权CN202520618963.12025-04-02CN224020732U2026-03-20李琳、许、朱永成、周艳30下电组件及等离子体处理设备实用新型授权CN202520539349.62025-03-25CN224123342U2026-04-14田宁、叶如彬、范光伟31种掩膜结构形成法发明利实质审查的生、公布CN202510293724.82025-03-12CN121496378A2026-02-10罗彬、赖锋源、张海龙、尹志尧、丛海32掩膜结构及其形成法发明利实质审查的生、公布CN202510293826.X2025-03-12CN121496322A2026-02-10罗彬、赖锋源、刘健钢、尹志尧、丛海33种掩膜结构及其制备法、半体设备发明利实质审查的生、公布CN202510293764.22025-03-12CN121496321A2026-02-10尹志尧、丛海、罗彬、赖锋源、张海龙34等离子体约束结构及等离子体处理设备实用新型授权CN202520402185.22025-03-07CN224232637U2026-05-12叶如彬、马越、洪青、范光伟35种环组件及成膜装置实用新型授权CN202520251908.32025-02-17CN223780392U2026-01-09郭世平、姜勇、郑振宇、丁伟36种边缘环组件、下电组件、等离子体处理装置和制备法发明利授权、实质审查的生、公布CN202510165658.62025-02-14CN119673741B2025-05-30叶如彬、范光伟、田宁、吕翌晟37种阻抗匹配器、射频组件与等离子体处理设备实用新型授权CN202520210442.22025-02-10CN222637222U2025-03-18卢明、李博睿、倪图强38种半体加工设备及其控制法发明利授权、实质审查的生、公布CN202510147729.X2025-02-10CN119601451B2025-05-09李博睿、卢明、倪图强39种化学气相沉积装置实用新型授权CN202520172387.22025-01-24CN223780352U2026-01-09杜冰洁、路今、姜银鑫40种基座及化学气相沉积设备实用新型授权CN202520166280.72025-01-23CN224001504U2026-03-17梁轩、徐立、吕术亮41种钨的填充法发明利公布CN202510116725.52025-01-23CN122458769A2026-07-24谢忠帅、吕术亮、徐立、李远、晓明42种约束环组件、等离子体处理装置及法发明利公布CN202510104160.92025-01-22CN122455619A2026-07-24田宁、叶如彬43种下电组件、等离子体处理设备及其电压控制法发明利授权、实质审查的生、公布CN202510098695.X2025-01-21CN119517722B2025-05-13田宁、叶如彬44半体处理设备及法发明利公布CN202510098221.52025-01-21CN122455617A2026-07-24智昊、许45种隔离结构及化学气相沉积装置实用新型授权CN202520123428.92025-01-17CN223780362U2026-01-09黄稳、李勇志、姜勇、陆顺开46缓冲装置实用新型授权CN202520107111.62025-01-16CN223780359U2026-01-09杨闰清、徐灿阳、陈冬、许灿、何伟业47种化学气相沉积装置发明利授权CN202510073813.12025-01-16CN119932527B2026-04-10张辉、姜银鑫、姜勇48种化学气相沉积装置实用新型授权CN202520086318.X2025-01-14CN223780351U2026-01-09陆顺开、周子琛、张辉49种气体流量控制阀、气体输送装置及气体供应法发明利实质审查的生、公布CN202411976013.22024-12-31CN119374033A2025-01-28徐志鹏、倪图强、连增迪50化学气相沉积设备实用新型授权CN202423319091.32024-12-31CN223780363U2026-01-09朱泉松、庄宇峰、吕术亮、李远相关词条:离心玻璃棉 塑料挤出机 钢绞线厂家 铝皮保温 pvc管道管件胶
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